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真空氣氛箱式爐 1200系列箱式爐

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產品概述

一、簡要介紹

該真空箱式爐系列用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結等工藝，也可用于產品的炭化試驗。該爐采用電阻絲加熱，PID程序控溫儀控制，溫控儀可設定30 段升溫曲線、PID控制參數自整定、并具有斷偶、超溫報警保護等功能。爐體采超輕質高鋁纖維材料，具有熱容小、溫度升降控制靈活、節能等特點，設備已根據所需冷態極限真空≤400Pa集成配備了真空泵及相關配件。

該設備為密封式加熱腔體,確保設備可在真空條件下,或者一些特殊氣氛條件下使用，相比普通箱式爐，使用環境更靈活，使用范圍更廣泛。

真空箱式爐LFM1200C 91VC

二、技術參數

型號	LFM1200C 91VC
額定功率	19KW
額定電壓	AC 380V 三相
最高溫度	1200℃
額定溫度	≤1100℃
升溫速率	10℃/min
控溫精度	±1℃
控溫方式	模糊 PID 程序控溫（30段程序控溫）
熱電偶型號	K 型
加熱元件	電阻絲
設備重量	400KG
外型尺寸（長×深×高）	92010001300mm
爐膛尺寸（WDH）	450450450mm
爐膛容積	91L
空氣開關	40A
冷態極限真空	≤400Pa

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